CVD涂層設備
CVD涂層設備技術(shù)參數(shù)
一、系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標
系統(tǒng)主要由涂層沉積真空室、外加熱爐、氣路系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)等組成,實現(xiàn)加溫后,通入工作氣體,實現(xiàn)樣品的涂層生長等功能。
1.使用機械泵抽氣真空度可達到:1Pa;
2.*高溫度:1100℃;
3.真空室內(nèi)徑:230mm;
4.恒溫區(qū)范圍:600mm×230mm
5.進氣管直徑:10mm
6.氫氣*大流量:30SLM; 氮氣*大流量:100SLM;甲烷*大流量:5SLM
7.浴槽罐的容量:5公斤;水浴加熱*高溫度:100℃;浴槽罐數(shù)量:2套
8.氣管加熱溫度:150℃
產(chǎn)地:上海產(chǎn)品型號:CVD價格:面議 發(fā)布時間:2014-11-29
鄭重聲明:以上信息由企業(yè)自行發(fā)布,該企業(yè)負責信息內(nèi)容的完整性、真實性、準確性和合法性。本網(wǎng)站對此不承擔任何責任。