PI膜石墨化爐
發(fā)布時(shí)間:2020-6-11 17:08:03
用途:用于導(dǎo)熱材料(PI膜)的高溫石墨化處理。
產(chǎn)品結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
爐溫均勻性
采用中頻電源感應(yīng)加熱,效率高:獨(dú)特的爐膛設(shè)計(jì),大大提高了爐溫均勻性。爐溫均勻性度±10℃,溫控精度±1℃。
能耗低
雙層氧化鋁保溫材料,隔熱耐火效果好,熱損失小,升溫速度快。
易損件使用壽命長(zhǎng)
坩堝底部墊有高強(qiáng)度硬質(zhì)復(fù)合氈,以確保石墨坩堝在高溫下平整均勻受力,是同類產(chǎn)品使用壽命的1.3倍。
具有高度安全性
*設(shè)計(jì)爐體防爆閥,安全可靠。
設(shè)備自動(dòng)化程度高
1、全自動(dòng)化控制,觸摸屏直觀的顯示各種參數(shù)數(shù)據(jù),完善的報(bào)警和閉鎖停機(jī)保護(hù)裝置。水電氣全自動(dòng)控制,操作輕松簡(jiǎn)便。
2、電源柜采用全密封結(jié)構(gòu),機(jī)柜自帶水冷和風(fēng)冷散熱器,不與外界空氣發(fā)生熱交換,先進(jìn)的控溫系統(tǒng),采用進(jìn)口數(shù)顯化智能溫控表,可與PLC實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通訊,全自動(dòng)高精度完成測(cè)溫控制過程,系統(tǒng)可按給定升溫曲線升溫,并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
3、采用密閉內(nèi)循環(huán)純水冷卻系統(tǒng);數(shù)字式流量監(jiān)控系統(tǒng),每一路水由流量計(jì)監(jiān)控保護(hù)。
4、采用中科院研發(fā)、生產(chǎn)的高性能氣體凈化機(jī),可將氣體氧含量降至1PPMV,露點(diǎn)溫度可降至-70℃。
5、爐體轉(zhuǎn)換采用我公司專用高性能中頻轉(zhuǎn)換器,避免傳統(tǒng)接觸器的打火等接觸不良現(xiàn)象。
6、按照升溫時(shí)間和工藝要求,可單臺(tái)電源柜配置多臺(tái)爐體,分別對(duì)單臺(tái)爐體實(shí)現(xiàn)升溫和降溫分開完成,大大提高生產(chǎn)效率。
主要技術(shù)參數(shù)及配置
產(chǎn)品型號(hào)規(guī)格 JR-SML20/30 JR-SML40/100 JR-SML50/100 JR-SML60/100 JR-SML90/160
額定裝模尺寸 120*120 255*255 330*330 400*400 550*550
恒定爐溫 3000℃ 3000℃ 2850℃ 2850℃ 2800℃
極限爐溫 3000℃(可完全滿足高導(dǎo)熱膜的石墨化)
控溫方式 采用日本SHIMADEN(島電)溫控儀
有效工作區(qū)(mm) Φ200*300 Φ400*1000 Φ500*1000 Φ600*1000 Φ900*1600
根據(jù)客戶要求,可以優(yōu)選配置。
1.觸摸屏或工控機(jī)全自動(dòng)控制和記錄工藝參數(shù)。PLC可編程與觸摸屏顯示系統(tǒng),智能溫控表與PLC實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通訊。
2.數(shù)字式流量監(jiān)控系統(tǒng),每一路水由流量計(jì)監(jiān)控。
3.根據(jù)真空度的要求加配羅茨泵,真空度可達(dá)40Pa
4.為了工人值守輕松,增加進(jìn)出氣自動(dòng)平衡系統(tǒng)。(質(zhì)量流量控制儀準(zhǔn)確控制進(jìn)入爐內(nèi)各種氣體流量,壓力控制儀準(zhǔn)確控制爐內(nèi)氣氛壓力。
5.收集焦油采用雙級(jí)冷凝脫焦過濾器凈化真空排放氣體,有效保護(hù)真空泵運(yùn)轉(zhuǎn)正常。
6.高性能氣體凈化器,可將氣體氧含量降至1PPMV,露點(diǎn)溫度可降至-70℃。
7多功能操作臺(tái)可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制,*遠(yuǎn)20米距離